外媒报导，曝光机大厂艾司摩尔 (ASML) 交货第三代规范型极紫外（EUV）曝光机，新设备类型为Twinscan NXE:3800E，0.33数值孔径透镜，较旧类型Twinscan NXE:3600D的规范型曝光机，功能前进，支撑几年内3纳米及2纳米芯片制作。
Twinscan NXE:3800E第三代规范型EUV代表规范曝光功能和精度又一次前进，达每小时处理195片芯片速度，较Twinscan NXE:3600D约160片约进步22%，且有或许前进到220片。新设备还能小于1.1纳米的芯片对准精度。
即使出产4/5纳米芯片，Twinscan NXE:3800E第三代规范型EUV也能进步功率，前进芯片出产经济性，更高效且更具本钱效益。重要的是Twinscan NXE:3800E精确度进步会让3纳米以下制程获益，让2纳米芯片和需两层曝光的制作技能作用更好。